Modutek成立于1980年，为半导体制造设施和研究实验室提供湿法工艺技术的半导体制造设备和解决方案。该公司在内部设计和制造半导体湿法工艺设备，并可以帮助选择满足特定客户要求的更佳设备配置。Modutek可以从其全面的标准湿台站系列中提出设备，或设计定制解决方案以满足特殊需求。
除了制造和供应高质量的半导体湿法工艺设备外，Modutek的服务还包括提供详细的文档和广泛的售后支持。图纸可以包括电气原理图、管道和仪表图纸、布局和安装图纸。其他信息包括实体模型、流动模拟和备件文档。该公司在安装期间和验收后提供广泛的客户支持。
Modutek是半导体制造行业许多设施的首选湿式工作台制造商，具有以下优势：
作为湿式工作台工艺设备制造商，Modutek提供更高质量的可靠设备。
该公司不断与客户合作，开发更好地满足他们需求的系统，并采用更新技术。
凭借40年的经验，公司可以提供满足客户要求的解决方案。
公司内部的专业知识、设计和生产意味着一站式解决方案，没有第三方。
内部设计和制造，包括软件设计，使Modutek能够提供技术支持。
Modutek提供全面的半导体湿法工艺设备系列，包括全自动，半自动和手动站，可以包含IPA蒸汽干燥器和化学处理站。
由于Modutek设计自己的工作站，因此该公司可以提供定制设计以满足特定的客户要求。
作为半导体湿式工作台制造商，Modutek提供的优势得到了公司致力于提供高度可靠的设备和实现完全客户满意度的支持。Modutek的优势转化为半导体制造设施的以下优势：
由于效率和更新技术的利用，吞吐量更高
由于颗粒数量减少和清洁度提高，减少了浪费，从而减少了缺陷产品
由于工艺一致性和可重复性高，输出质量更高
通过高设备质量和快速、全面的支持减少停机时间
整体提高设施绩效和盈利能力
立即联系Modutek，为您的晶圆加工，化学品处理和半导体制造要求找到具有成本效益的解决方案。Modutek的工程师和销售团队随时准备讨论您的新项目，翻新生产线或设施添加。作为半导体湿法工艺设备和湿法台站的领先供应商，我们欢迎客户从头到尾的咨询和合作，直到他们完全满意。
半导体湿法工艺设备和湿法工作台用于以下应用：
BOE (Buffered Oxide Etch)
Chrome Etch
Flat Panel Display
GaAs Etching Process
KOH Etching
LED Process
MEMS
Metal Etch
Acid Neutralization Systems
Ozone Process, Photo Resist Strip
Ozone Process, Standard Clean
Plating
Positive Resist Strip
Precision Cleaning
SC1 & SC2 Clean
Silicon Etch
Silicon Nitride Etch
Solar (texturing, saw damage and chemical polishing)